依据CINNOResearch工业统计数据,全世界内,受光电显现工业高质量开展进程的影响,光学膜相关专利的请求高度集中在日中韩美四国,算计占比超90%。
富士胶片、日本电工、柯尼卡美能达等头部企业占有先发优势,在光学膜范畴专利布局的广度及深度抢先职业。
光学膜坐落显现面板工业链的上游,凭仗较高的技术壁垒,它的毛利率坐落工业链“浅笑曲线”的高位。在全球面板产能向我国大陆搬运的大布景下,考虑到供应链经济性及安全性,光学膜作为显现面板工业链中的重要原资料,其国产代替已成趋势。自上世纪末,盛波光电投产第一条偏光片生产线起,国内厂商慎重进入光学膜赛道。从技术引进到自主研制,在近年来许多方针的正向指引下,国内光学膜企业的产品结构一直在晋级,配套显现面板工业链的全体搬运,活跃助力“我国智造”。光学基膜作为显现范畴多种功用膜材的根底资料,技术壁垒极高,触及资料配方、制程工艺、精细配备等多方面的配套规划。其中心目标是透光率和雾度,受原资料以及配方规划、制程工艺及环境管控、助剂的增加及涣散等多方面要素的一起影响。国内光学膜企业作为全世界内的后来者,在资料、配方、设备、专利布局、人才储藏及客户拓宽等方面均仍有提高空间。
光学基膜在显现范畴的反射膜、分散膜、增亮膜、偏光片等产品中均有广泛应用,依据CINNOResearch工业统计数据,全球显现用PET光学基膜商场估计将于2025年打破60亿元,CAGR3.1%。